著者典拠情報

著者標目形：
河東田, 隆(1944-)||カトウダ, タカシ
属性：
Personal
場所：
東京
日付：
1944
注記：
東京大学工学部教授
工学博士
出生地の追加は著書「レーザーラマン分光法による半導体の評価」(1988,東京大学出版会)の奥付より。
EDSRC:ガリウムヒ素 / 生駒俊明, 河東田隆, 長谷川文夫著(丸善, 1988.1):奥付(著者の現職:河東田隆:東京大学工学部境界領域研究施設助教授)
著者典拠ID：
DA00880833


1.

図書
図書
1. 半導体評価技術
河東田隆編著 ; 奥村次徳 [ほか] 執筆
出版情報: 東京 : 産業図書, 1989.2
シリーズ名: 集積回路プロセス技術シリーズ
所蔵情報: 図書館
2.

図書
図書
2. レーザラマン分光法による半導体の評価
河東田隆著
出版情報: 東京 : 東京大学出版会, 1988.4
所蔵情報: 図書館, 研究室
3.

図書
図書
3. 半導体結晶 : エレクトロニクスをささえる技術
河東田隆著
出版情報: 東京 : 丸善, 1987.12
シリーズ名: Frontier technology series ; [019]
所蔵情報: 図書館
4.

図書
図書
4. 半導体エピタキシー技術
河東田隆著
出版情報: 東京 : 産業図書, 1982.10
シリーズ名: 集積回路プロセス技術シリーズ
所蔵情報: 図書館
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