著者典拠情報

著者標目形：
早川, 茂||ハヤカワ, シゲル
属性：
Personal
注記：
工学博士
松下電器株式会社専務取締役技術本部長, (株)イオン工学センター社長
EDSRC:薄膜技術の新潮流 : 多彩な新規応用をカバー / 平尾孝〔ほか〕共著(工業調査会, 1997.7)
EDSRC:イオン工学技術の基礎と応用 / 平尾孝 [ほか] 共著(工業調査会, 1992.4)
著者典拠ID：
DA00469253


1.

図書
図書
1. 薄膜化技術. 第3版
和佐清孝, 早川茂著
出版情報: 東京 : 共立出版, 2002.6
所蔵情報: 図書館
2.

図書
図書
2. 薄膜化技術. 第2版
和佐清孝, 早川茂著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1992.9
所蔵情報: 図書館
3.

図書
図書
3. スパッタ技術
和佐清孝, 早川茂著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1988.6
所蔵情報: 図書館, 研究室
4.

図書
図書
4. 電子材料セラミクス
中重治, 早川茂共編
出版情報: 東京 : オーム社, 1986.9
シリーズ名: ファインセラミクステクノロジーシリーズ ; 3
所蔵情報: 図書館
5.

図書
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5. 薄膜化技術
早川茂,和佐清孝著
出版情報: 東京 : 共立出版, 1982.12
所蔵情報: 図書館
6.

図書
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6. エレクトロニクス材料
城阪俊吉, 早川茂著
出版情報: 東京 : 電気書院, 1975
所蔵情報: 図書館
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